真空離子電鍍法是目前光學濾光片行業(yè)使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝，物理氣相沉積術（PVD）屬于光學鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面，接著啟動蒸發(fā)源部分氣體在等離子體轟擊中離子化，并被預熱濾光片基板表面的負壓加速，因此，在層基板和部分新形成的金屬層連續(xù)被燒蝕的同時，汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發(fā)技術相結(jié)合，可以得到較高的沉積率。入射電子束對濾光片膜層結(jié)構有很大影響，濾光片膜層性質(zhì)取決于眾多復雜參數(shù)，因此通過有目的的工藝控制有可能直接影響濾光片膜層的密度、硬度和耐腐蝕性。物理氣相沉積術（PVD）屬于光學鍍膜最重要的工藝范疇。兩方面的優(yōu)勢特別明顯：可鍍基板的多樣性以及實用鍍膜材料的廣泛性。

采用真空鍍膜離子（PVD）鍍膜的濾光片產(chǎn)品，膜層牢固性好，硬度高耐摩擦，耐腐蝕可以在高溫高濕的環(huán)境中長期使用并保持穩(wěn)定的濾光片性能，目前納宏光電采用進口的真空鍍膜離子鍍膜機可以為您提供多種類可以定制化生產(chǎn)的濾光片解決方案，歡迎來電垂詢。

光學濾光片工藝加工系列：

怎么提高濾光片膜層強度？

我們該怎么選擇濾光片廠家呢？

濾光片膜層填充密度提高產(chǎn)品質(zhì)量？

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光學濾光片質(zhì)量和加工制造工藝的關系

工藝水平對濾光片的質(zhì)量的影響有那些？

真空鍍膜離子（PVD）鍍膜濾光片有什么優(yōu)點？

為什么鍍膜的時候有離子源的濾光片質(zhì)量比較好？

鍍膜濾光片基片清潔的不干凈會對濾光片有什么影響？

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